Halbleiterindustrie am Wendepunkt: Vom Nanometer- zum Angström-Zeitalter
Kurz & Knapp
- Imec und ASML haben erfolgreich die nächste Generation von Maschinen für die Chipherstellung getestet. Mit dem High-NA-Werkzeug konnten sie in einem Durchgang Schaltkreise drucken, die so klein oder kleiner sind als die derzeit in der kommerziellen Produktion verwendeten.
- Die High-NA-EUV-Lithographie verwendet Lichtstrahlen mit höherer numerischer Apertur, um kleinere und komplexere Schaltkreisstrukturen auf Halbleiterwafern zu erzeugen. Dies ermöglicht die Herstellung schnellerer, leistungsfähigerer und energieeffizienterer Chips.
- Chiphersteller wie Intel, TSMC, Samsung Electronics, SK Hynix und Micron haben bereits High-NA-Anlagen bestellt oder gekauft. Die Technologie wird als entscheidend für die weitere Verkleinerung von Logik- und Speichertechnologien angesehen und soll den Weg ins "Angström-Zeitalter" ebnen.
Das belgische Forschungsunternehmen imec hat zusammen mit ASML erfolgreich die nächste Generation von Maschinen für die Chipherstellung getestet.
Nach Angaben von imec ist es Forschern im gemeinsamen High-NA-EUV-Lithografie-Labor von ASML und imec in Veldhoven, Niederlande, gelungen, mit dem High-NA-Werkzeug in einem einzigen Durchgang Schaltkreise zu drucken, die so klein oder noch kleiner sind als die derzeit in der kommerziellen Produktion von Logik- und Speicherchips verwendeten.
Die High-NA-EUV-Lithographie ist eine hochmoderne Technologie, die Lichtstrahlen mit einer höheren numerischen Apertur (NA) verwendet, um kleinere und komplexere Schaltkreisstrukturen auf Halbleiterwafern zu erzeugen. Dieser Fortschritt ermöglicht die Herstellung schnellerer, leistungsfähigerer und energieeffizienterer Chips.
Technologie für das "Angström-Zeitalter"
Luc Van den hove, CEO von imec, unterstrich die Bedeutung dieser Technologie und erklärte, dass High NA "für die weitere Verkleinerung von Logik- und Speichertechnologien von entscheidender Bedeutung sein wird". Die Ergebnisse bestätigten das seit langem vorhergesagte Auflösungsvermögen der High-NA-EUV-Lithographie und ebneten den Weg für weitere Fortschritte in der Halbleitertechnologie, die die Grenzen der Chipherstellung in das "Angström-Zeitalter" verschieben.
In der Halbleiterindustrie bezeichnet dies die für die nächsten Jahre erwartete Phase, in der die Produktion von Chiptechnologie in Angströmen statt in Nanometern gemessen wird. Intel bezeichnet daher seine geplanten 2-Nanometer-Chips bereits als 20A (1 nm = 10 A), die neue Technologie soll dann den 14A-Chip ermöglichen.
Die vorgestellten Ergebnisse zeigen, dass die Chiphersteller in den kommenden Jahren in der Lage sein werden, die High-NA-Anlage von ASML für ihre nächsten Chip-Generationen zu nutzen. Intel hat bereits die ersten beiden High-NA-Anlagen gekauft, eine dritte soll noch in diesem Jahr an TSMC geliefert werden, und weitere Chiphersteller wie Samsung Electronics, SK Hynix und Micron haben ebenfalls Bestellungen aufgegeben. Über TSMC wird die Technologie auch von Nvidia für zukünftige KI-Beschleuniger eingesetzt. Wie die Chips selbst sind auch die Maschinen von den US-Exportverboten - unter anderem nach China - betroffen.
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